钨钼溅射靶材

溅射技术概念：

溅射技术是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

溅射靶材应用：

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。宝鸡元恒泰金属科技的钨靶材和钼靶材广泛应用于光伏、TFT-LCD等现代工业。

溅射靶材对纯度有较高的要求，一般钨钼溅射靶材要求纯度达到99.95%以上，并且具有良好的密度和耐腐蚀性能。

产品材料：

钨靶材、钼靶材、钨钼合金靶材、以及钼铌合金